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平面拋光研磨機(jī)的性能受到哪些挑戰(zhàn)

發(fā)布日期： 2019-12-19 瀏覽人數(shù)：

平面拋光研磨機(jī)適用于各種材料研磨拋光，在光學(xué)玻璃、石英晶片、硅片、LED藍(lán)寶石襯底等要求超薄工件的領(lǐng)域中作用突出�；ヂ�(lián)網(wǎng)的生活將人們的衣食住行緊緊地聯(lián)系在一起，進(jìn)而對(duì)手機(jī)的需求越來越大，而平面拋光研磨機(jī)行業(yè)也正在不斷發(fā)展。

然而，隨著對(duì)研磨產(chǎn)品的性能要求不斷提高，平面拋光研磨機(jī)性能也在不斷受到挑戰(zhàn)。具體來說，石英晶片、硅片等要求厚度越來越薄，為了提高振蕩頻率。而藍(lán)寶石襯底片為了利于散熱也在要求厚度變薄，手機(jī)零件方面對(duì)工件的精度、光潔度要求也越來越高。

總而言之，平面拋光研磨機(jī)要應(yīng)對(duì)這些挑戰(zhàn)，廠家一方面要改善設(shè)備的各方面性能，另一方面要提高自身的研磨加工技術(shù)。

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